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cluster

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  • 产品说明

集束式多腔系统，可处理直径12英寸或以下尺寸的样品
可选配4个或更多工艺腔室
 可选配磁控溅射/电子枪/电阻/离子溅射等沉积方式
可选配ICP/ALD /IBE/PECVD等单独工艺腔室
 可根据工艺需求选用多种不同尺寸炉腔组合
兼容直流/射频/脉冲直流电源并自动切换
 可选配16个或更多溅射靶枪
可选配单探头/双探头/六探头晶控
可选配工件台加热/水冷/自由调温等控温方式
 兼容共焦（CON-FOCAL）/垂直（VERTICAL）溅射方式
 可选配SPEEDFLO/RGA/椭偏仪等在线监控系统
全自动耐高温机械臂

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